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《炬丰科技-半导体工艺》RCA关键清洁过程 - 手机搜狐网

用于第一处理步骤的SC-1溶液由水(H2O)、过氧化氢(H2O2)和氢氧化 ... 氢氧化铵还用于通过络合除去一些周期表IB族和IIB族金属，如Cu、Au、Ag、Zn和Cd， ...

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