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深次微米矽製程技術 - 第 13 頁 - Google 圖書結果

1.3 提升光學微影製程的技術在微影系統的光學設計最佳化,解析度已達系統極限之後, ... 修正曝光裝置的方法是加大照明的同源因數( coherent factor , o ) ,例如由 0.75 ...

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