你即將離開本站

並前往https://www.jstage.jst.go.jp/article/agrmet1943/52/5/52_5_853/_article/-char/en

Application of fluorine-containing gases for cleaning CVD ...

Amorphous silicon was rapidly etched by ClF3 even at room temperature and the etch rate depended on the partial pressure of ClF3 below 72 Torr. On the other ...

確定！ 回上一頁

查詢 「Clf3」的人也找了：

  1. clf3形狀
    2.
  2. Clf3
    3.
  3. ClF3 MSDS
    4.
  4. 三氟化氯
    5.
  5. ClF3 point group
    6.
  6. ClF3 shape
    7.
  7. I3- 路易斯 結構
    8.
  8. VSEPR 法則
    9.