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用於改良式半導體蝕刻及部件保護之系統與方法 - Google Patents

半導體 系統及方法可包括具有氣箱之半導體處理腔室，此氣箱界定至此半導體處理腔室之入口。此腔室可包括間隔物，該間隔物特徵為與氣箱耦接之第一表面，及此間隔物可界定 ...

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