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半導體設備PVD,CVD，磁控濺射這類技術與離子注入技術區別？

是不是PVD,CVD，磁控濺射是以前半導體行業製造薄膜的方法？而離子注入是新一代半導體製造薄膜的方法？那為什麼液晶面板廠還都用PVD,CVD，磁控濺射這類技術？...

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