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CMP 機台 基本 架構
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化學機械研磨的模式化與控制(3/3) - 9lib TW
我們使用台灣應用材料公司的三區段CMP 機台,於研磨平台上具有in situ 的感應器, ... 基本上我們考慮到晶圓本身圓形的對稱性,為方便往後模擬時工作的簡化,因此我們 ...
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