我們使用三種不同的蝕刻溶液C6H8O7.H2O/H2O2,C6H8O7/H2O2,C4H6 O4/NH4OH/H2O2對GaAs/AlAs及GaAs/Al0.32Ga0.68As結構做選擇性蝕刻的研究.並將最後所得到的結果應用在 ...
確定! 回上一頁