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ALD,原子層沉積技術及應用 - 大永真空設備

... 通入惰性氣體(Ar或N2)吹除多餘的TMA分子或副產物；上述步驟(1)~(4)或步驟(5)~(8)，即個別為一個ALD cycle；第(1)步驟主要牽涉基板表面的活化程序， ... ALD的缺點.

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