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Intel Unveils More 10nm Details. By Dick James | by Eray Hsieh

Intel將在10奈米節點以鈷進行觸點金屬化(contact metallization)，可能會成為先進半導體製程戰場上的差異化特點；Globalfoundries則將在7奈米節點繼續採用半導體產業在 ...

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