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不用EUV 也能直上5 奈米，鎧俠與合作夥伴欲先導入量產

原因在NIL 技術微影製程較單純，耗電量可壓低至EUV 技術10%，並讓設備投資降至僅EUV 設備40%。EUV 曝光設備由荷蘭商ASML 獨家生產，不但價格高昂，且需 ...

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