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摩爾定律的下一步：半導體製造技術的變革新趨勢 - 北美智權

但就現階段來看，要藉由EUV實現7奈米以下微縮製程，仍有許多棘手的問題待克服。除了生產性降低、成本增加、產能對半砍，EUV還有曝光裝置耗電太大的問題。

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