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黏晶製程
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暫時性貼合/ 解貼合——半導體|3M - 3M 台灣
對特定製程(電鍍等)的耐化學性,以及晶圓浸泡一定時間和溫度(拋光等)後的重量損失/增加; 熱處理後的重量損失(介電質固化、電漿、濺射等); 殘留物分析; 膠黏劑的物理 ...
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