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林本堅以浸潤式微影技術開創產業未來

過去半導體晶片製程中，主要採用乾式曝光，以空氣為鏡頭和晶圓之間的介質，把光罩 ... 會上，受邀演講的林本堅，發表「次65奈米製程以下的微影技術」（Lithography for ...

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