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黃光製程實驗室 - 電漿與薄膜科技中心

本實驗室將進行之研究方向是半導體器件製造製程中的一個重要步驟，該步驟利用曝光和顯影在光阻層上刻畫幾何圖形結構，然後通過蝕刻製程將光罩上的圖形轉移到所在基板上。

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