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半導體微影製程急先鋒陳正方博士從矽谷闖天下

但是要在1995年之前，就先開發出0.35微米微影製程，必須自行另闢可用之生產技術。 「我當時的任務就是要由汞燈紫外線光源波長0.365微米照明下，使用傳統光罩做出0.35 ...

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