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國立交通大學機構典藏：黃光微影製程晶圓覆蓋誤差控制研究開發

覆蓋誤差(Overlay Error)為黃光微影製程控制的重要項目，覆蓋誤差的量測結構，為Box-in-Box結構，其中，晶片上的前層組織位於外圍的盒框，而當層組織位於內盒框。

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