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具熱穩定性之HfO2 及ZrO2 系列閘極氧化膜之研發與界面鑑定

本實驗使用反應性磁控濺渡系統(Magnetron Reactive Sputter System)來沉積高介電. 常數薄膜。使用物理性濺鍍沈積閘極氧化層具有成本低、易掌控厚度、雜質少，以及再. 現性 ...

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