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氮化層-氧化層-矽結構非揮發態記憶體之研究

由 林士豪 著作 · 2009 — 高介電係數介電質材料應用於互補式電晶體、金氧金電容與金屬-氧化層-氮化層-氧化層-矽結構非揮發態記憶體之研究. The Investigation of Metal-Gate/High-k ...

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