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中微發佈第一代電感耦合等離子體蝕刻設備Primo nanova(R)

採用了完全對稱的反應腔設計、多區細分溫控靜電吸盤和動態晶圓邊緣耦合 ... 蝕刻設備已在國際主要晶片製造和封測廠商的生產線上廣泛應用於45奈米到7奈 ...

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