你即將離開本站

並前往https://patents.google.com/patent/TWI620228B/zh

TWI620228B - 電漿處理裝置與電漿處理方法 - Google Patents

在步驟600中，在一電漿處理腔體內產生一平面電漿。在本實施例中，產生平面電漿的電場例如在2KV/cm~30 KV/cm之間，且調整平面電漿的電場，便能改變試片的表面的親、疏水性。

確定！ 回上一頁

查詢 「電 漿機」的人也找了：

  1. 電漿機原理
    2.
  2. 氧電漿機
    3.
  3. 電漿清洗機
    4.
  4. 電漿清潔原理
    5.
  5. 大氣電漿機
    6.
  6. 電漿清洗機價格
    7.
  7. 氧 電漿 原理
    8.
  8. 電漿清洗原理
    9.