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被動元件製程設備/旋轉電鍍機-萬潤科技股份有限公司

用途說明. 本設備用於晶片之電鍍，將晶片放入旋轉鍍筒，藉由陽極自動手臂交換及清洗達到電鍍之目的。 特性說明. 1.旋轉轉速可程式化(150rpm~1100rpm)。

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