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圖解光電半導體元件 - 第 244 頁 - Google 圖書結果

蝕刻 n 寸的步驟是攸關整個製程成功與否的關鍵,此步驟需要對於本質氫化非晶矽蝕刻 ... 自從司看山電漿製程來輕易的使 n "和背通道介電質層之間的蝕刻具有高選擇比後, ...

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