你即將離開本站

並前往https://ppfocus.com/0/sc617990c.html

如何在電漿蝕刻製程中控制晶圓的製程均勻度? - 人人焦點

例如，如果一個步驟是晶圓中心的蝕刻率快，蝕刻能透過邊緣快速來補償。這聽起來好像很簡單，但要達成這樣的製程控制程度實際上是很困難的，相當於要在另 ...

確定！ 回上一頁

查詢 「電漿蝕刻步驟」的人也找了：

  1. 乾蝕刻步驟
    2.
  2. 蝕刻製程ppt
    3.
  3. icp蝕刻原理
    4.
  4. 乾蝕刻濕蝕刻比較
    5.
  5. rie蝕刻原理
    6.
  6. 電漿蝕刻氣體
    7.
  7. 感應耦合電漿蝕刻
    8.
  8. 電漿蝕刻優點
    9.