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濕式蝕刻使用「氟化氫水溶液」來將氧化矽溶解掉；乾式蝕刻使用「氟化氫(氣體)」產生氟離子(電漿)來將氧化矽反應去除掉，如＜圖三＞所示，其步驟如下： ➤ ...

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