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微製程概論(IC 及TFT/LCD) - 遠東科技大學

半導體製程中所用到的標準清洗步驟，其程. 序如下： ... RCA清洗方法為二段步驟：濕式氧化及錯合反應。 ... 子蝕刻為例，就是利用電漿放電方式進行異向性蝕刻的方法。

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