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半导体蚀刻技术_百度文库

其蝕刻速率與氮化矽的成長方式有關，以電漿輔助化學氣相沉積方式形成之氮化矽， ... 大部份的蝕刻過程包含了一個或多個化學反應步驟，各種形態的反應都有可能發生，但 ...

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