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化學氣相沉積與介電質薄膜

電漿 增強型化學氣相沉積. （PECVD）. （. ） • 發展於當氮化矽取代二氧化矽成鈍化保. 護層. • 在相對低溫下達到高沉積速率. RF 在摻雜氣體中引發電漿場.

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