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高密度電漿蝕刻系統 - 國立中央大學光電科學研究中心

儀器中文名稱：活性離子電漿蝕刻系統 · 儀器廠牌及型號：Advance Vacuum /Vision 320 · 設備規格：. RF Power：600W/13.56MHZ/auto-matching · 儀器功用：矽基材料及光阻之電 ...

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