你即將離開本站

並前往http://ir.lib.isu.edu.tw/retrieve/108815/isu-104-isu10204003m-1.pdf

蝕刻製程在不同晶圓載台轉速下之電漿流動的數值模擬

電漿 流動的數值模擬. Numerical simulation on the plasma flow for the wafer holder at various rotational speeds in the etching process. 研究生：陳凱盈.

確定！ 回上一頁

查詢 「電漿機原理」的人也找了：

  1. 電漿原理ppt
    2.
  2. 何謂電漿
    3.
  3. 電漿清洗原理
    4.
  4. 電漿表面處理
    5.
  5. 電漿形成
    6.
  6. 電漿溫度
    7.
  7. 電漿 的 功用
    8.
  8. 電漿成分
    9.