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濺鍍(Sputtering)原理 - 大永真空設備

電漿 的產生是在真空下，藉由施加高偏壓於金屬板，此為陰極，而相對此電極包括桶身 ... 而濺鍍之原理是在真空腔體中以靶材為陰極，通入惰性氣體，氣體內少量的自由電子 ...

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