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第二章文獻回顧2-1 磁控濺鍍技術

產生電弧(arc)現象，或正電荷累積至飽和時，正離子工作氣體便無法往陰 ... (一)驅動電漿中氬離子(Ar+)對基板作轟擊效應，可達到再濺射作用.

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