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創新氨氮廢水資源化

半導體製程中廣泛使用RCA Standard. Clean-1(氨水+雙氧水)的清洗程序去除晶圓表面的. 微粒污染物，而造成排放的廢水中含有高濃度的氨. 氮。依新制之竹、中、南科學園區 ...

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