你即將離開本站

並前往http://chur.chu.edu.tw/bitstream/987654321/42471/1/GE098010190.pdf

使用雷射退火之鍺基底N 型 - CHUR

(ultra-shallow junction)的使用是必須的，而使用低能量的雷射退火製程便可以確保. COMS 結構不因高溫退火(RTA)而損壞。 本實驗採用高效能的閘極先製(gate-first) ...

確定！ 回上一頁

查詢 「閘極是什麼」的人也找了：

  1. 閘極材料
    2.
  2. 閘極gate
    3.
  3. 閘極英文
    4.
  4. 閘極寬度
    5.
  5. 閘極gate汲極drain源極source
    6.
  6. 閘極漏電流
    7.
  7. finfet介紹
    8.
  8. source drain定義
    9.