而PVD製程設備可簡略分為蒸鍍(evaporation)、濺鍍. (sputtering deposition)及離子鍍(ion plating),本實驗製程則以非平衡磁控濺. 鍍方式沉積氮化鈦薄膜於鎂合金上。 1995 ...
確定! 回上一頁