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濕蝕刻 - 財團法人自強工業科學基金會半導體研究室

濕蝕刻. ○服務項目：. 1.氧化矽蝕刻、含磷氧化矽蝕刻、含硼氧化矽蝕刻，10:1 HF溶液，常溫。 2.鋁蝕刻：鋁蝕刻液，50℃數位溫控。 3.氮化矽蝕刻：磷酸，150℃數位溫控。

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