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(12)發明說明書公告本

屬膜或是W 系金屬膜進行蝕刻;再者,本發明係關於一種半導體基板用蝕刻劑調製液,係由包含 ... 氫混合液等之酸性蝕刻液。 然而,於過氧化氫混合液中,當含有例如銅、銀、金.

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