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磊晶二矽化鈷(CoSi2)之成長 - 材料世界網

本文介紹當半導體積體線路達到180nm 以下製程時所面臨的應用問題，並以現在最常使用的幾種矽化物(TiSi2 、CoSi2 、NiSi 、WSi2 )來做製程與運用上的 ...

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