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《華林科納-半導體工藝》使用臭氧和HF清洗去除金屬雜質的研究

HF清洗同時去除了這些氧化膜和金屬氧化物，認為表面粗糙度有所提高，被銅污染的晶片和紫外線/臭氧處理的晶片的曲面幾何體。

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