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金属氧化物电阻存储器及其制备方法 - Google

上述方案中，所述采用化学机械抛光方法去除多余的上电极材料和扩散阻挡层/仔晶铜/电镀铜复合层， 同时形成位于所述的第一介质层孔洞中的存储结构和第一层金属布线的步骤中 ...

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