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退火温度对高纯钨靶显微组织和内应力的影响 - 宇航材料工艺

摘要：采用热等静压工艺制备了高纯钨靶，并在不同温度下对其进行退火处理。采用金相显微镜、TEM、XRD和硬度计对不同温度退火的高纯钨靶的显微组织和内应力进行表征。

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