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超音波震盪板
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電化學工程應用 - 第 504 頁 - Google 圖書結果
CMP 後清洗中,主要使用超純水沖刷,或藉由超音波震盪,以去除附著力較弱的殘留物。但有些殘留物經乾燥後可能會與晶圓表面產生化學鍵結,所以還需要透過 NH4OH、HF 和界面 ...
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「超音波震盪板」
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