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光阻鍍膜機與濕蝕刻清洗機之製程與設備技術實務 - 管理學院

在製程來說，負光阻製程. 之優點為成本低，產量高，相對來說，解析度則因高分子聚合物會吸收顯影液而. 腫脹，因此較正光阻差，正光阻則主要用於次微米技術之主要材料。

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