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半導體製程之綠色革命－超臨界流體技術之應用

以CO2直接對光阻做顯影，可減少化學品使用量，並可省卻乾燥步驟。片狀具有THPMA（四氫呲喃基）段與可溶於CO2的氟化甲基丙烯複合高分子負 ...

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