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新電子 09月號/2019 第402期 - 第 28 頁 - Google 圖書結果

Yang Pan表示,為了要繼續擴展節點路線圖,需要EUV減少邊緣放置誤差(Edge Placement Error)。每個新的光刻都需要新的抗蝕劑、新的蝕刻製程等來定義圖案(Pattern)。

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