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英特尔公布最新工艺路线图：重新定义制程，封装技术创新 - 搜狐

英特尔表示该制程节点采用EUV光刻技术，可使用超短波长的光，刻印极微小的图样，每瓦性能约20%的提升以及芯片面积的改进，可应用下一代Foveros和EMIB ...

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