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氮化鎵發光二極體之電漿蝕刻特性研究

關鍵字: GaN;氮化鎵;Inductively coupled plasma;Etch rate;Selectivity;Etch angle;感應耦合式電漿;蝕刻速率;選擇比;蝕刻角度;粗糙度. 出版社: 精密工程學系所.

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