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蝕刻選擇性
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III-V及金屬材料蝕刻系統
本中心的電漿蝕刻系統結合:(1) 物理性的離子轟擊與(2) 化學反應性蝕刻,兼具非等向性與高蝕刻選擇比的優點,對於III-V及金屬材料的蝕刻需要氯氣離子電漿的化學反應 ...
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「蝕刻選擇性」
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