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半導體製程簡介
過程:薄膜製作→微影製程→蝕刻→離子植入。 重複上述過程,進行不同位置的線路及元件製作。 回目次. 二、半導體製程. 13-1 半導體製程簡介. 矽晶圓製作IC. 課本P.273.
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