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新世代記憶體的蝕刻挑戰與解決方案 - 電子工程專輯

該製程開啟了在側壁上形成元件的路徑，因此可以把ReRAM整合到垂直架構中。 探索新的化學特性. 為了尋找蝕刻MRAM的新途徑，UCLA教授Chen開發了一種氧化金屬 ...

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