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乾式蝕刻製程在不添加三氟甲烷氣體下之40奈米反閘及快閃記憶 ...

本文主要研究一種半導體nand flash 40奈米鋁銅導線蝕刻製程，且有關於一種利用反應性離子蝕刻（reactive ion etching）之Applied蝕刻設備，在不添加三氟甲烷(CHF3) ...

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